アイクストロングループ CVD装置

アイクストロングループ CVD装置

AIXTRON社のMOCVD装置、SiC-CVD装置など、研究開発から量産まで幅広いニーズに最適なシステムを提案するアイクストロングループ。
丸文株式会社は、CVD装置で世界をリードするアイクストロングループの最先端CVD装置に加え、in-situモニタリングシステムまでラインナップし、CVDに関するさまざまなニーズに豊富な経験と実績に基づく確かなノウハウでお応えしています。

AIXTRON社 Planetary-MOCVD装置

高輝度LED、通信用半導体レーザ、高速電子デバイスなど化合物半導体製造用の薄膜成長装置です。(MOVPE装置とも呼ばれます。)『プラネタリーリアクター』など独自の優れたテクノロジーにより、高いガス消費効率と薄膜均一性を実現しています。

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AIXTRON社 CCS-MOCVD装置

独自技術『クローズ カップルド シャワーヘッド』などにより、GaN(窒化ガリウム)系、InGaAsP系を材料に薄膜を成長させる化合物半導体用に特化し、非常に高い材料使用効率を実現しています。

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AIXTRON社 SiC-CVD装置(シリコンカーバイト用成膜装置)

SiC-CVD装置はIGBTなどパワーデバイスの新材料として期待されるシリコンカーバイトウェハの成膜装置です。AIXTRON社の持つ特許<ガスフォイルローテーション方式とプラネタリー方式>の採用で、シリコンカーバイトウェハの量産を実現しています。

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AIXTRON社 その他の薄膜装置

当社ではMOCVD装置だけでなく、AIXTRON社の有機EL薄膜成長装置や、カーボンナノチューブ、グラフェン等成長装置もラインナップに揃えております。

有機EL用OVPD装置

フラットパネルディスプレイ(FPD)などに用いられる低分子蛍光材料用の有機EL薄膜成長装置です。
多種の膜を一つのチャンバーにて成膜でき、MFC制御のキャリアーガスによる原料輸送方式の採用により、成膜の高精密制御、クロスコンタミネーションの防止ができ、極めて長いメンテナンスサイクルを可能にしています。
また、特許技術であるシャワーヘッドテクノロジーを採用することで、50%以上の極めて高い原料消費効率や高いデポジションレートを実現しています。お客様のご用途に応じて研究開発用の小型基板サイズから大型基板に対応した量産機まで提案いたします。

AIXTRON社 BLACK MAGIC(カーボンナノチューブ、グラフェン等成長装置)

“BLACK MAGIC”はCVD法を用いた独自の加熱機構とプラズマ技術、シャワーヘッド技術を活用したカーボンナノチューブやナノワイヤー、グラフェン等の成膜装置です。お客様の目的・用途に合わせて研究用の小口径から量産用の大口径まで幅広いラインナップを取り揃えております。
優れた再現性及びプラズマ安定性、高速加熱ヒーター、サーマルCVDとプラズマCVDの双方に対応しており、様々なアプリケーションに適応することが可能です。