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薄膜装置・ナノテクノロジー

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微細転写装置ST50 (LED量産対応機)

微細転写装置ST50(LED量産対応機) 高輝度LEDの製造に特化したナノインプリント装置で、ウエハー上エピタキシャル層に塗布されたレジストを、数百nmピッチの凹凸パターンを有する型(モールド)を用いて転写します。
微細転写装置ST50 (LED量産対応機)
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自公転式MOCVD装置

AIXTRON社の自公転式MOCVD装置は、処理するサセプター とウェハが独立に回転するプラネタリーリアクター(自公転) 方式の採用により、優れた成膜均一性を実現しています。 最大6インチウェハ6枚、2インチウェハで49枚の大容量処理 能力を持つ量産機から、R&D向け装置まで幅広いラインナップ を揃えております。
自公転式MOCVD装置
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MOCVD装置
MOCVDのトップメーカーである独国AIXTRON社の製品を提供しています。
高輝度LEDや通信用半導体レーザなど、化合物半導体製造におけるR&Dから大量生産まで、幅広いニーズに最適なMOCVD装置です。
ナノインプリント
東芝機械株式会社の微細転写装置(ナノインプリント装置)を提供しています。同社の装置は、コストパフォーマンスに優れ、従来の露光装置によるリソグラフィに比べ、低コストで高速かつ大量に微細加工することが可能です。
プラズマ発生装置
樹脂、金属、ガラス、フイルム等、2つの異なる材質の接着やコーティングにお悩みの市場へ、低コストで高密度な表面処理ソリューションをご提案します。
その他の薄膜装置
AIXTRON社のSiCの薄膜成長装置やLaytec社のin-situモニタリングシステムなど、MOCVD以外の薄膜装置やモニタリングシステムです。

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