エキシマレーザドライ加工装置 M-12T/ts

エキシマレーザドライ加工装置 M-12T/ts

高精度4ステージによる高い同期位置決め性能をもつエキシマレーザドライ加工装置です。高分解能マスクプロジェクション光学系と高い並行性能・同期性能をもつ上下セパレート構造のXYステージシステムにより、2枚の基板上の高分子ポリマー・金属薄膜などを同時にかつ高精細にパターン加工します。UVレーザ光源は高出力で大面積照射が可能なコストパフォーマンスの高い最新型エキシマレーザを搭載。固体レーザによるプロジェクションシステムも対応可能です。

主な仕様

  • 波長:248nm、308nm
  • 分解能:2μm@248nm、3μm@308nm
  • 繰返周波数:200-600Hz
  • 基板サイズ:200mm、300mm
  • 基板高さ自動測定、オートフォーカスシステム、マルチオートアライメントシステム、
    Pレンズ温調システム、エネルギー安定化システム、クラス100温調カバー